关于台式无掩膜光刻系统您了解多少？

台式无掩膜光刻系统的特点：

无掩膜成本、快速迭代：传统铬版制版周期 3~7 天、单版数千元；无掩膜改图即曝光，一天迭代数十版，适合课题试错。

设备轻量化、门槛低：台式占地＜1㎡，无需万级洁净室，实验室通风台即可放置，配套匀胶机、热板即可搭建完整微加工线。

灰度3D加工能力：传统接触/投影光刻仅二元0/1曝光；无掩膜灰度曝光可一次成型曲面微透镜、衍射光学元件。

柔性、小批量灵活加工：微流控、二维材料、传感器小批量打样成本远低于传统工艺。

应用领域：

微流控与生物芯片：如细胞分选器件、芯片实验室等。

微机电系统（MEMS）：包括 RF-MEMS、传感器制造及生物医学植入物原型制作。

微光学与光子学：制造微透镜阵列、二元衍射光学元件、光波导及全息掩膜等。

前沿半导体与柔性电子：用于二维半导体材料的图案化、柔性可拉伸集成电路、类脑芯片及高密度软生物电子纤维的制备。