NANYTE BEAM台式无掩模光刻机/激光直写系统设计的纳米图案结构，无需昂贵的掩膜可直接通过激光光刻图案。在确保其优异性能的同时，小型化设计使得操作更为便捷，且实现快速加工处理，不但提高了微纳米器件科研和生产的效率，还有效的节省了成本。

NANYTE BEAM台式无掩模光刻机/激光直写系统设计的纳米图案结构，无需昂贵的掩膜可直接通过激光光刻图案。在确保其优异性能的同时，小型化设计使得操作更为便捷，且实现快速加工处理，不但提高了微纳米器件科研和生产的效率，还有效的节省了成本。

纳米压印系统，针对大学实验室、研究所微纳米加工研究设计，配备温度控制和低压控制系统，使用方便，性能稳定可靠；同时配合专业设计的压印模板，可实现各种微纳米图形加工，特征线宽小于20nm；