碳纳米管CVD制备系统用于制备纳米碳材料，如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备；采用封闭式管式炉，石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm，基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等；

喷雾热解成膜系统技术基本原理是将含有成膜成分的前驱体物质制成溶液，然后在高压下使其雾化，喷射到预热的基材上，发生分解反应，得到想要的薄膜材料；常用的高压源通常为压缩的空气、氧气、氮气、氢气等；

石墨烯制备系统（CVD）主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料，有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底（通常是铜铝箔）放置在炉里,甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入，在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜。

Slot-Die涂布机是一种快速的涂布薄膜的方式，不仅用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED涂布等，还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。

Roll to Roll Slot-Die 卷对卷涂布系统是一种高效涂布方式，不仅用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED涂布等，还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。