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kSA 400 RHEED分析系统

描述:kSA 400 RHEED分析系统,适合各种RHEED系统和薄膜沉积系统(如:脉冲激光沉积设备PLD,溅射系统Sputtering,分子束外延MBE, 金属有机化学气象沉积MOCVD等)!目前第四代系统结合新的硬件和软件,为客户提供丰富的RHEED分析信息。

更新时间:2024-07-04
产品型号:
厂商性质:代理商
详情介绍
品牌其他品牌产地类别进口
价格区间面议应用领域环保,化工,生物产业,能源,电子

kSA 400 RHEED分析系统,适合各种RHEED系统和薄膜沉积系统(如:脉冲激光沉积设备PLD,溅射系统Sputtering,分子束外延MBE, 金属有机化学气象沉积MOCVD等)!目前第四代系统结合新的硬件和软件,为客户提供丰富的RHEED分析信息。


kSA 400 RHEED分析系统 超过500个用户,国内如南京大学、中科院半导体所、电子部11所、中国科技大学、复旦大学、上海技术物理研究所等;


技术参数:

  • CCD系统:高速、高分辨和高灵敏度三种可选
  • 光学系统:RHEED定量分析及成像分析
  • 标准接口法兰


主要特点:
 
• 图像分析:单一图像分析(静态分析)模式,用户选择多图像模式,聚焦模式,扫描模式,录像模式,交互图像叠加模式,2D和3D图像分析;
  • 实时衍射条纹演化监控拍摄;
  • 实时薄膜沉积速率测量;
  • 原位表面诊断分析
  • 软件分析功能
  • RHEED振荡追踪检测
  • 可扩展:Phase Locked Epitaxy (PLE), LEED, Auger/XPS,电子枪控制和摇摆曲线扫描;


专业的RHEED分析系统(kSA 400 Analytical RHEED System),适合各种RHEED系统和薄膜沉积系统(如:脉冲激光沉积设备PLD,溅射系统Sputtering,分子束外延MBE, 金属有机化学气象沉积MOCVD等)!目前第四代系统结合新的硬件和功能强大的软件为客户提供广泛的RHEED分析信息。kSA 400 RHEED分析系统,适合各种RHEED系统和薄膜沉积系统(如:脉冲激光沉积设备PLD,溅射系统Sputtering,分子束外延MBE, 金属有机化学气象沉积MOCVD等)!目前第四代系统结合新的硬件和软件,为客户提供丰富的RHEED分析信息。

 实际应用广泛,欢迎广大新老客户咨询,我们会竭力为您解决问题。期待我们能成为朋友,能为您的科研事业尽到微薄之力,我们倍感荣幸。同时感谢广大用户对我们一直的支持。谢谢!




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