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石墨烯制备系统(CVD)

描述:石墨烯制备系统(CVD)主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料,有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底(通常是铜铝箔)放置在炉里,甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入,在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜。

更新时间:2021-01-06
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厂商性质:代理商
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品牌其他品牌供货周期现货
应用领域环保,化工,生物产业,能源,电子

石墨烯制备系统(CVD)主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料,有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底(通常是铜铝箔)放置在炉里,甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入,在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜。
快速冷却对于形成高质量的石墨烯薄膜非常重要,快速冷却可以抑制碳过量的沉积在催化剂金属箔上 (如铜或镍箔);系统配备了快速冷却系统。管式炉向一侧滑动30mm到反应炉,加热的炉可以远离样品,从而快速冷却样品。通过非常简单的方式达到快速冷却的效果。

石墨烯制备系统(CVD)

主要特点:
1)快速加热和制冷功能;
2)管式炉滑动装置,可使得样品快速加热和冷却;
3)特殊设计的测温传感器,可直接监测样品温度;
4)支持生长其他各种碳纳米材料(碳纳米管、碳纳米线等); 

技术指标:

1)石英管尺寸:OD50×ID46×L1200mm

2)加热区尺寸:φ50×L260mm

3)最大操作温度:1200 ℃

4)正常使用温度范围:400-1100 ℃

5)程序化PID温度控制

6)三路气体源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar)

7)旋转真空泵,抽速20L/min

8)热电偶实时监测样品温度

9)快速加热和制冷系统

10)手动管式炉滑动系统,滑动距离300mm

11)设备尺寸:W1400×H1000×D500mm

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