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描述:纳米压印系统,针对大学实验室、研究所微纳米加工研究设计,配备温度控制和低压控制系统,使用方便,性能稳定可靠;同时配合专业设计的压印模板,可实现各种微纳米图形加工,特征线宽小于20nm;
应用领域:
光学器件,显示器,数据存储,生物技术,半导体芯片,化学合成,新型材料等
技术性能:
*操作方便
*可升级功能
*客户可根据需求定制设备功能
*用户通过触摸屏来程序化控制处理过程;
*用户可自主设定工艺参数;
*真空吸附模板和Wafer
*具备UV固化功能
*Wafer尺寸:4英寸;
*压印尺寸:2英寸;
*压印压力:0~25PSI(可升级到大100PSI)*模板尺寸:5×0.09英寸*典型压印时间:小于5分钟/wafer
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